稀土材料--氟化钇
佳美机械李泽18509857587氟化钇 YF3（三氟化钇）
CAS：13709‑49‑4，正交晶系白色稀土氟化物粉体，半导体等离子防腐涂层、光学镀膜主流材料，也用于熔盐电解制备金属钇。
一、基础物性参数
表格
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 分子式 | YF3 |
| 分子量 | 145.90 |
| 外观 | 白色结晶粉末 |
| 密度 | 4.01 g/cm3 |
| 熔点 | 1387℃ |
| 沸点 | 2227℃ |
| 折射率 @550nm | 1.49‑1.51 |
| 透光区间 | 0.19～12 μm（紫外‑红外宽透过） |
| 溶解性 | 几乎不溶于水、稀盐酸、稀硝酸；溶于热高氯酸；空气中轻微吸潮 |
注意：大气高温加热容易氧化生成氟氧化钇 YOF、Y₅O₄F₇，氧杂质升高会破坏涂层性能。
二、主要应用
1. 半导体等离子喷涂涂层（最常用）
等离子刻蚀腔体防护，抵抗卤素等离子（、、）腐蚀，替代氧化钇，产尘更少。
喷涂粉：造粒 15‑45 μm；大气等离子喷涂会出现氟挥发、氧升高；尽量低压等离子喷涂 LPPS，控制氧含量 2‑4 wt%，孔隙率＜5%，硬度 HV350‑470。
喷涂后可以研磨抛光，可做到Ra＜0.2 镜面（和你前面焊接光洁度需求对应），抛光去除表层微裂纹，减少颗粒脱落污染腔体。
2. 光学镀膜（蒸发料，颗粒 / 锭）
UV‑IR 增透膜，无放射性，替代氟化钍ThF4；膜层应力小，适合多层膜系。
纯度常用99.9%、99.99%。
3. 其他
氟化物红外光纤、上转换发光材料、激光晶体基质原料。
熔盐电解生产金属钇原料。
特种光源碳弧电极涂层。
三、粉体 / 涂层关键质量关注点
氧含量：高纯 YF₃氧越低越好；喷涂后涂层氧最好控制＜4%；氧过高生成 YOF，抗等离子腐蚀大幅下降。
纯度：稀土杂质、重金属杂质，半导体场景要求极低杂质。
相纯度：XRD 检测，尽量单一正交 YF₃相，少氟氧化钇杂相。
吸潮：粉体密封干燥保存，受潮高温处理会加重氧氟置换。
四、安全注意（MSDS）
粉尘吸入有害，刺激呼吸道；皮肤眼睛会刺激。
操作必须排风，佩戴防尘口罩、护目镜、手套。
热分解会释放氟化氢，高温加工（喷涂、熔炼）必须强排风。
五、结合你前面 Ra＜0.2 场景
氟化钇等离子喷涂腔体件工艺路线：LPPS 低压等离子喷涂 YF₃涂层（厚度 50‑150 μm）→粗磨→精磨→逐级金刚石研磨抛光，可实现 Ra≤0.2 镜面腔体内壁。⚠️不要指望喷涂直接出 Ra0.2；喷涂态一般 Ra3‑8，必须后续机加工抛光。大气等离子喷涂 YF₃涂层氧含量偏高，不建议用于半导体高洁净腔体。
